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射频磁控溅射镀膜装置.

更新时间:2016-05-18

访问量:599

厂商性质:生产厂家

生产地址:北京美华仪科技有限公司

简要描述:
射频磁控溅射镀膜装置. 主要点:结构简捷、操作简便,真空度维护,安可靠。
镀膜机应安装在干净无尘埃、无腐蚀性气体的室内,并具备清洁水源、及220V的稳定电压等条件的地方。
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射频磁控溅射镀膜装置.    型号:MHY-13452

 

射频磁控溅射镀膜装置. 主要用途:本设备主要用于大院校研究和开发纳米单层膜;如各种硬质膜、金属膜;也可以是非金属、化合物等薄膜材料。可以行直接溅射,亦可以实现反应溅射。

 

主要点:结构简捷、操作简便,真空度维护,安可靠。
镀膜机应安装在干净无尘埃、无腐蚀性气体的室内,并具备清洁水源、及220V的稳定电压等条件的地方。

1、地面的基本水平度要经过调整,不得低不平;

2、环境温度:10℃~30℃;

3、相对湿度:不大于75%;

4、耗水量(水温度≤25℃,2.5Kg≥水压≥1.5Kg):约0.2T/h;

5、水质要求:

矽酸硬度<6度,PH值:7-8,电导率:200us/cm,沉积率:<200mg/L。

6、电压: 220V,50HZ, 

电压波动范围: 198~231V;

频率波动范围:49~51Hz;

7、水压:0.3~1Kg/cm2或0.03~0.1MPa/cm2;

8、充入气体纯度99.9%或以上;

9、镀膜用耗材纯度99.9%或以上。

 

设备规格参数
1.1、溅射处理室: 
       1、钟罩:内径225mm×度260mm;
       2、试样台:直径80mm(zui大);
       3、试样旋转:静止;
       4、挡板:手动;
       5、衬底加热器:不锈钢加热器(DC24V); 
       6、衬底温度范围:室温~200℃;
       7、衬底可调距离:20mm~60mm;
       8、溅射室限真空:0.5Pa
1.2、真空系统:
       1、抽气系统:由机械泵组成的真空系统;抽气速率:4升/S
       2、真空检测:电阻真空计、电阻规;
       3、常用真空度:1~20Pa
       4、操作:手动
1.3、溅射电源:
1、射频电源:频率13.560MHZ,率:500W,用表示; 
2、阻抗匹配器范围:(2.7~45)Ω-j(0~70)Ω; 
3、供电:AC 220V;
4、冷却方式:风冷;
  1.4、 磁控靶:
1、靶材直径:Ф50mm、 个磁靶;
2、靶材厚度:3~6mm;
1.5、气系统:2路转子量计气,
1.6、电源要求:AC 220V  50Hz  10A 
1.7、气体要求:氩气--纯度99.9%(样品有殊要求时使用纯)
1.8、冷却要求:靶体水冷,溅射电源风冷
1.9、体积重量:体积:L550mm×W680mm×H1480mm;约120kg
 
 

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