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电子天平

更新时间:2015-10-23

访问量:509

厂商性质:生产厂家

生产地址:北京美华仪科技有限公司

简要描述:
电子天平称量范围 0-4100g
读数度 10mg
秤盘尺寸 Φ160mmX160mm
外形尺寸 223mmX330mmX80mm
品牌TESTO/德国德图

1.     电子天平   型号;MHY-20959

电子天平称量范围  0-4100g
读数度  10mg
秤盘尺寸  Φ160mmX160mm
外形尺寸  223mmX330mmX80mm
电    源  220V/50Hz
四防震,有计数、百分比、下称、单位转换等能

 

2.    固体数字熔点仪 数字熔点仪 型号:MHY-20956

用于观察和测量固体材料的熔化性,而分析判断单质材料的类型和分析判断二组分体系熔解性并获取该组分体系的相图。真空炉透明,目视熔化过程,无烟雾等有害气体产生。恒源、毫伏表均采用数字显示。

能:
MHY-20956数字熔点仪是为大学物理实验和物化实验课程用于观察和测量固体材料的熔解性而门的实验教学仪器。利用本仪器测量熔化了的固体样品在均匀冷却过程中的温度——时间冷却曲线(亦称步冷曲线),可以分析和判断单质材料的类型(晶体、非晶体),测量晶体材料的熔点,分析和判断二组份体系熔解性并获取该组份体系的相图。
 
仪器点:
     1.  材料样品炉真空透明,目视熔化过程,无烟雾等有害气体产生;
     2.  有善的多控温装置,安可靠;
     3.  样品炉炉温升、降过程直接采用数字温度表显示,直观明了;
     4.  计时器提示音有三档可选。
参数:
1、熔化炉加热率 :300W;
2、温度范围 : 0~500℃。
  3、数字控温温度计:测量范围0~500℃,  控温设定范围 20~500℃。
4  计时器计时范围 :1~99999秒,5位数显,
5  提示音间隔 :  3秒、5 秒、10 秒、三档可选
6、电源 AC 220V  50Hz  2A。

 

3.     小型制冷和制冷性能实验仪  型号:MHY-20950

由小型制冷试验机和制冷性能实验仪两分组成,可获得温度—时间响应性,制冷量—温度性,制冷系数和制冷效率并行热过程分析。

 

4.     纳米微粒制备实验仪 型号:MHY-20949

参照电阻加热蒸发法制备微颗粒的原理,行相关的金属、氧化物、分子材料及其他材料的微颗粒制备实验或演示

、基本原理
纳米(Nano-ST)是20纪80年代末期刚刚诞生并正在迅速发展的。它是研究由尺寸在0.1~100纳米(nm)之间的物质组成体系的运动规律和相互作用以及可能的实际应用中的问题的,它是度交叉的综合性学科,也是个融前沿和于体的整体系。
在整个纳米科的发展过程中,纳米微粒的制备和微粒性质的研究是zui早开展的。
微粒制备的方法很多,按制备方法可分为物理方法和化学方法。按制备路经分,可分为粉碎法和聚集法。
本实验仪采用电阻加热,气体冷凝法制备纳米微粒。
图中显示蒸汽冷凝法制备纳米微粒的过程。利用抽气泵(真空泵)对系统行真空抽吸,并利用惰性气体行置换。惰性气体为纯Ar、He等,有些情形也可以考虑用N2气。经过几次置换后,将真空反应室内保护气的气压调节控制至所需的参数范围,通常约为0.1kPa至10kPa范围,与所需粒子粒径有关。当原材料被加热至蒸发温度时蒸发成气相。气相的原材料原子与惰性气体的原子(或分子)碰撞,迅速降低能量而骤然冷却。骤冷使得原材料的蒸汽中形成很的局域过饱和,非常有利于成核。成核与生长过程都是在短的时间内发生的。形成原子簇,然后继续生长成纳米微晶,zui终在收集器上收集到纳米粒子。
 
二、仪器组成
如图所示
纳米微粒制备实验仪外型图   仪器照片

实验仪器:
玻璃真空罩G置于仪器真空橡皮圈的上方。平时真空罩内保持定程度的低气压,以维护系统的清洁。当需要制备微粒时,打开阀门V2让空气入真空室,使得真空室内外气压相近即可掀开真空罩。真空罩下方真空室底盘P的上倒置了只玻璃烧杯F,用作纳米微粒的收集器。两个铜电I之间可以接上随机附带的螺旋状钨丝H。铜电接至蒸发速率控制单元,若在真空状态下或低气压惰性气体状态下启动该单元,钨丝上即通过电并可获得1000℃ 以上的温。真空底盘P开有四个孔,孔的下方分别接有气体压力传感器E,以及连结阀门V1、V2和电磁阀Ve的管道。气体压力传感器E连结至真空度测量单元,并在数字显示表M1上直接显示实验过程中真空室内的气体压力。阀门V1通过管道与仪器后侧惰性气体接口连结,实验时可利用V1调整气体压力,亦可借助Ve调整压力。阀门V2的另端直通大气,主要为打开钟罩而设立。电磁阀Ve的另端接至抽气单元并由该单元实行抽气的自动控制,以保证抽气的顺利行并排除真空泵油倒灌入真空室。蒸发控制单元的加热率控制旋钮置于仪器面板上。调节加热器时数字显示表M2直接显示加热率。


三、主要标
真空度<0.01KPa
气体压力测量范围0.01KPa ~120KPa   四位半数字显示
加热率0  ~200W
率测量  三位半数字显示
电源  220V  50Hz
 

四、操作步骤
1.准备作
(1)检查仪器系统的电源接线、惰性气体连结管道是否正常。惰性气体用纯Ar气,亦可考虑使用化学性质不活泼的纯N2气。
(2)利用脱脂白绸布、分析纯酒、仔细擦净真空罩以及罩内的底盘、电和烧杯。
(3)将螺旋状钨丝接至铜电。
(4)从样品盒中取出铜片(用于纳米铜粉制备),在钨丝的每圈上挂片,罩上烧杯。
(5)罩上真空罩,关闭阀门V1、V2,将加热率旋钮沿逆时针方向旋至zui小,合上电源总开关S1。此时真空度显示器显示出与大气压相当的数值,而加热率显示值为零。由于HT-218预置了不当操作报警,如果加热率旋钮未调节至zui小,蜂鸣器将持续发出信号直至纠正为止。
(6)合上开关S2,此时抽气单元开始作,电磁闭Ve自动接通,真空室内压力下降。下降至定值时关闭S2,观察真空度是否基本稳定在该值附近,如果真空度持续变差,表明存在漏气因素,检查V1、V2是否关闭。正常情况下不应漏气。
(7)打开阀门V1,此时惰性气入真空室,气压随之变大。
(8)熟练上述抽气与供气的操作过程,直至可以按实验的要求调节气体压力。
(9)准备好备用的干净毛刷和收集纳米微粉的容器。
2.制备铜纳米微粒。
(1)关闭V1、V2阀门,对真空室抽气至0.05kPa附近。
(2)利用氩气(或氮气)冲洗真空室。打开阀门V1使氩气(或氮气)入真空室,边抽气边气(氩气或氮气)约5分钟。
(3)关闭阀V1,观察真空度至0.13kPa附近时关闭S2,停止抽气。此时真空度应基本稳定在0.13kPa附近。
(4)沿顺时针方向缓慢旋转加热率旋钮,观察加热率显示器,同时关注钨丝。随着加热率的逐渐增大,钨丝逐渐发红而变亮。当温度达到铜片(或其它材料)的熔点时铜片熔化,并由于表面张力的原因,浸润至钨丝上。
(5)继续加大加热率时可以见到用作收集器的烧杯表面变黑,表明蒸发已经开始。随着蒸发过程的展,钨丝表面的铜液越来越少,zui终蒸发掉,此时应立即将加热率调至zui小。
(6)打开阀门V2使空气入真空室,当压力与大气压zui近时,小心移开真空罩,取下作为收集罩的烧杯。用刷子轻轻地将层黑色粉末刷至烧杯底再倒入备好的容器,贴上标签。收集到的细粉即是纳米铜粉。
(7)在2×0.13kPa,5×0.13kPa,10×0.13kPa及30×0.13kPa处重复上述实验步骤制备,并记录每次蒸发时的加热率,观察每次制备时蒸发情况有何差异。

 

5.    变温霍尔效应实验仪 型号:MHY-20948


霍尔效应的测量是开展半导体研究的重要方法。本机利用计算机的数据采集和处理在80K-400K温度范围内对霍尔系数和电导率的联合测量,行半导体导电机制及散射机制的研究,并可确定半导体的些基本参数,如导电类型、载子浓度、迁移率、禁带宽度以及杂质电离能等。        
主要标
1.电磁铁          0-300mT连续可调
2. 励磁电源       0-5A连续可调  可自动换向       稳定性﹤±0.1%
3. 数字斯拉计              0-2000mT       三位半数字显示   分辨率0.001
4. 恒源输出       1mA       稳定性±0.1%
5. 数据采集系统霍尔电压测量zui小分辨率1uV
6. 温度变化测量范围           80-400K
7. 整套仪器由电磁铁系统、电源控制系统机箱、测量系统主机、恒温器四分组成
8. 探头样品采用单晶锗片
 
 


 

 


 

 


 

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